多項選擇題分結(jié)深是重要的結(jié)構(gòu)參數(shù),在檢驗時發(fā)現(xiàn)超淺結(jié)注入時,判斷其造成原因有()
A.快速熱退火及升溫速度和保持時間是否準(zhǔn)確
B.檢查是否有溝道效應(yīng)
C.檢查注入能量系統(tǒng)
D.檢查注入速度和時間是否準(zhǔn)確
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1.多項選擇題以下是離子注入過程中的主要參數(shù)的是()
A.劑量與束流密度
B.射程與注入能量
C.注入角度
D.晶圓
2.多項選擇題下列可能造成離子源沾污的因素是()
A.離子源是否被沾污
B.真空系統(tǒng)是否漏氣
C.原材料是否滿足純度要求
D.光刻膠的堿性元素沾污
3.多項選擇題離子注入機掃描系統(tǒng)中,采用的掃描方式有()
A.靜電掃描
B.機械掃描
C.混合掃描
D.平行掃描
4.多項選擇題傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有()
A.反刻法
B.高溫回流法
C.旋涂玻璃法
D.化學(xué)機械拋光法
5.多項選擇題金屬薄膜制備中常見的濺射方式有()
A.直流濺射
B.射頻濺射
C.磁控濺射
D.準(zhǔn)直濺射
最新試題
在離子注入完成后,檢驗到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況,該情況引起的主要問題有()
題型:多項選擇題
通過分析刻蝕前后刻蝕腔內(nèi)的成分來判斷是否達(dá)到終點的終點檢測方法是()
題型:單項選擇題
鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是()
題型:多項選擇題
()可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進行篩選,挑選出唯一需要注入的離子。
題型:單項選擇題
調(diào)試和維修電路時排除故障的一般程序和方法是怎樣的?
題型:問答題
敘述測試晶體管的方法?
題型:問答題
下列哪些是進行光刻前的預(yù)處理的步驟?()
題型:多項選擇題
分結(jié)深是重要的結(jié)構(gòu)參數(shù),在檢驗時發(fā)現(xiàn)超淺結(jié)注入時,判斷其造成原因有()
題型:多項選擇題
最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括()
題型:多項選擇題
在顯影過程中,對于正性抗蝕劑,顯影液的使用要求是()。
題型:單項選擇題