最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

堅(jiān)膜烘焙在加熱平板上進(jìn)行，溫度控制在（）。

離子注入機(jī)掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時(shí)，一般使用（）。

（）可以通過(guò)帶電粒子在盛場(chǎng)作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

回態(tài)源擴(kuò)散的雜質(zhì)源有（）

影響顯影工藝的因素有（）。

利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）