新的平坦化方法有哪幾個？（）

CMP的設(shè)備構(gòu)成包括（）。

進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

互連工藝中AL的制備可選用（）。

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。

碳納米管場效應(yīng)晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。

摻雜后，退火的目的是（）。

化學(xué)機(jī)械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）

刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。