互連工藝中AL的制備可選用（）。

摻雜后，退火的目的是（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無(wú)關(guān)？（）

刻蝕工藝可以和以下哪個(gè)工藝結(jié)合來(lái)實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）

多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。

化學(xué)機(jī)械拋光液的主要成分不包括的是哪個(gè)？（）

硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項(xiàng)？（）

新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）

光刻工藝對(duì)準(zhǔn)誤差包括（）。

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。