<big id="uoxqa"><dfn id="uoxqa"><u id="uoxqa"></u></dfn></big>

問答題

【簡答題】描述平板反應器。

答案：首先在層間介質二氧化硅中刻出通孔窗口，
然后再覆蓋有TiN阻擋層的通孔窗口中淀積W，
最后進行干法等...

你可能感興趣的試題

【簡答題】二氧化硅，鋁，硅和光刻膠刻蝕分別使用什么化學氣體來實現(xiàn)干法刻蝕？

答案：刻蝕硅采用的化學氣體為CF₄/O₂和CL₂.刻蝕二氧化...

【簡答題】列出在干法刻蝕中發(fā)生刻蝕反應的六種方法？

答案： 1.對不需要刻蝕的材料的高選擇比
2.獲得可接受的產(chǎn)能的刻蝕速率
3.好的側壁剖面控制
4...