在離子注入完成后，檢驗到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況，該情況引起的主要問題有（）

光刻膠對人部分可見光敏感，但對（）光不敏感。

（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進(jìn)行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進(jìn)光刻機上，那么i線的UV光波長為（）

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

調(diào)試和維修電路時排除故障的一般程序和方法是怎樣的？

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設(shè)定于（）。

傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）

分結(jié)深是重要的結(jié)構(gòu)參數(shù)，在檢驗時發(fā)現(xiàn)超淺結(jié)注入時，判斷其造成原因有（）