單項選擇題ESD產(chǎn)生（）種不同的靜電總類。
A.1
B.4
C.3
D.2
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1.單項選擇題靜電釋放的英文簡述為（）。
A.ESC
B.SED
C.ESD
D.SEM
2.單項選擇題危害半導體工藝的典型金屬雜質(zhì)是（）。
A.2族金屬
B.堿金屬
C.合金金屬
D.稀有金屬
3.單項選擇題懸浮在空氣中的顆粒稱為（）。
A.懸浮物
B.塵埃
C.污染顆粒
D.浮質(zhì)
4.單項選擇題沾污引起的電學缺陷引起（），硅片上的管芯報廢以及很高的芯片制造成本。
A.不會影響成品率
B.晶圓缺陷
C.成品率損失
D.晶圓損失
5.多項選擇題沾污是指半導體制造過程中引入半導體硅片的任何危害微芯片（）的不希望有的物質(zhì)。
A.功能
B.成品率
C.物理性能
D.電學性能
E.外觀
最新試題
電子束蒸發(fā)中有一個特殊的部件是（）
題型：單項選擇題
說明功能檢測工裝的制作原理？
題型：問答題
（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。
題型：單項選擇題
當需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時，一般使用（）。
題型：單項選擇題
利用高溫驅(qū)動雜質(zhì)滲透進半導體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）
題型：單項選擇題
分結(jié)深是重要的結(jié)構(gòu)參數(shù)，在檢驗時發(fā)現(xiàn)超淺結(jié)注入時，判斷其造成原因有（）
題型：多項選擇題
一般情況下，刻蝕完成后需要進行的操作是（）
題型：單項選擇題
傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）
題型：多項選擇題
根據(jù)曝光模式，光制機的種類分為（）。
題型：多項選擇題
回態(tài)源擴散的雜質(zhì)源有（）
題型：多項選擇題