多項(xiàng)選擇題沾污是指半導(dǎo)體制造過程中引入半導(dǎo)體硅片的任何危害微芯片（）的不希望有的物質(zhì)。
A.功能
B.成品率
C.物理性能
D.電學(xué)性能
E.外觀
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1.多項(xiàng)選擇題凈化室將硅片制造設(shè)備與外部環(huán)境隔離，免受諸如（）的沾污。
A.顆粒
B.金屬
C.有機(jī)分子
D.靜電釋放（ESD）
E.水
2.多項(xiàng)選擇題樹脂使用過程中需保持一定溫度，陽樹脂和陰樹脂分別不能高于（）度，使用溫度不能過低，低于0度會(huì)使樹脂凍裂。
A.80
B.60
C.40
D.20
E.10
3.單項(xiàng)選擇題我們可以從測(cè)量去離子水的酸度來判別陰陽樹脂誰先失效，陰樹脂先失效，水呈（）性。
A.酸
B.堿
C.弱酸
D.弱堿
4.單項(xiàng)選擇題買來的新樹脂往往是Na型或Cl型，新樹脂使用前必須分別用酸（陽樹脂），堿（陰樹脂）浸泡約（）個(gè)小時(shí)，把Na型或Cl型轉(zhuǎn)換成H型或OH型。
A.3
B.4
C.5
D.6
5.單項(xiàng)選擇題樹脂的外形為（）的球狀顆粒。
A.淡黃色或褐色
B.黑色或棕色
C.淡紅色或褐色
D.淡藍(lán)色或棕色
最新試題
電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
一般情況下，刻蝕完成后需要進(jìn)行的操作是（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）
題型：多項(xiàng)選擇題
（）可以通過帶電粒子在盛場(chǎng)作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
刻蝕的過程中，對(duì)刻蝕的要求是（）
題型：多項(xiàng)選擇題
解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）
題型：多項(xiàng)選擇題
在顯影過程中，對(duì)于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進(jìn)光刻機(jī)上，那么i線的UV光波長(zhǎng)為（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）
題型：多項(xiàng)選擇題