單項(xiàng)選擇題靜電偏轉(zhuǎn)電極和靜電掃描器都是（）電容器。
A.片狀
B.針尖狀
C.圓筒狀
D.平行板
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1.單項(xiàng)選擇題離子束垂直進(jìn)入均勻的正交磁場(chǎng)后，將同時(shí)受到電場(chǎng)力和（）的作用。
A.洛侖茲力
B.反向的電場(chǎng)力
C.庫(kù)侖力
D.重力
2.單項(xiàng)選擇題分析器是一種（）分選器。
A.電子
B.中子
C.離子
D.質(zhì)子
3.單項(xiàng)選擇題離子束的引出系統(tǒng)的間接引出系統(tǒng)中，陽(yáng)極和插入電極之間形成一個(gè)離子密度較（）的等離子體。
A.低
B.高
C.均勻
D.不均勻
4.單項(xiàng)選擇題引出系統(tǒng)要求能引出分散性較好的強(qiáng)束流，還希望具有較（）的氣阻。
A.無(wú)序
B.穩(wěn)定
C.小
D.大
5.單項(xiàng)選擇題離子源的作用是使所需要的雜質(zhì)原子電離成（）離子，并通過一個(gè)引出系統(tǒng)形成離子束。
A.正
B.負(fù)
C.中性
D.以上答案都可以
最新試題
離子注入機(jī)掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）
題型：多項(xiàng)選擇題
鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）
題型：多項(xiàng)選擇題
在離子注入完成后，檢驗(yàn)到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況，該情況引起的主要問題有（）
題型：多項(xiàng)選擇題
電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
刻蝕的過程中，對(duì)刻蝕的要求是（）
題型：多項(xiàng)選擇題
光刻膠對(duì)人部分可見光敏感，但對(duì)（）光不敏感。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
假設(shè)光刻膠的厚度是2000埃，二氧化硅的厚度為4000塊，如果要求經(jīng)過30秒的刻蝕后，厚度變?yōu)?400埃，那么這個(gè)過程中刻蝕速率是（）埃/分鐘。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類分為（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
在顯影過程中，對(duì)于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下列可能造成離子源沾污的因素是（）
題型：多項(xiàng)選擇題