多項選擇題涂膠之前，要保證晶片的質(zhì)量以及涂膠工序的順利進行，下列操作正確的是（）。

A.進行去水烘烤以保證晶片干燥
B.在晶片表面涂上增粘劑以保證晶片黏附性好
C.剛剛處理好的晶片應(yīng)立即涂膠
D.貯存的晶片在涂膠前必須再次清洗及干燥
E.也可以直接使用貯存的晶片


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1.單項選擇題光刻工藝中，脫水烘焙的最初溫度是（）。

A.150－200℃
B.200℃左右
C.250℃左右
D.300℃左右

2.多項選擇題在深紫外曝光中，需要使用CA光刻膠，它的優(yōu)點在于（）。

A.CA光刻膠對深紫外光吸收小
B.CA光刻膠將吸收的光子能量發(fā)生化學轉(zhuǎn)化
C.CA光刻膠在顯影液中的可溶性強
D.有較高的光敏度
E.有較高的對比度

3.單項選擇題在深紫外曝光中，需要使用（）光刻膠。

A.DQN
B.CA
C.ARC
D.PMMA

4.單項選擇題在深紫外曝光中，需要使用CA光刻膠，CA的含義是（）。

A.化學增強
B.化學減弱
C.厚度增加
D.厚度減少

5.多項選擇題關(guān)于正膠和負膠的特點，下列說法正確的是（）。

A.正膠在顯影時不會發(fā)生膨脹，因此分辨率高于負膠
B.正膠的感光區(qū)域在顯影時不溶解，負膠的感光區(qū)域在顯影時溶解
C.負膠在顯影時不會發(fā)生膨脹，因此分辨率不會降低
D.正膠的感光區(qū)域在顯影時易溶解，負膠的感光區(qū)域在顯影時難溶解
E.負膠在顯影時會發(fā)生膨脹，導(dǎo)致了分辨率的降低