金屬化中可選用的金屬材料有（）。

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。

當(dāng)許多損傷區(qū)連在一起時(shí)就會(huì)形成連續(xù)的非晶層，開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為（）。

硅暴露在空氣中，在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層，厚度約為（）。

光刻工藝對準(zhǔn)誤差包括（）。

濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無關(guān)？（）

目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種？（）

新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）

多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。