下面哪些元素屬于半徑較小的雜質(zhì)原子？（）

硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項(xiàng)？（）

注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無(wú)關(guān)？（）

消除鳥嘴效應(yīng)的方法有（）。

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

常壓的硅外延方法有（）。

刻蝕工藝可以和以下哪個(gè)工藝結(jié)合來(lái)實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）

鳥嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。

光刻工藝的特點(diǎn)包括（）。