以下是離子注入過程中的主要參數(shù)的是（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應用于（）

傳統(tǒng)的平坦化技術(shù)有（）

下列哪些是進行光刻前的預處理的步驟？（）

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

當需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時，一般使用（）。

電子束蒸發(fā)中有一個特殊的部件是（）

一般情況下，刻蝕完成后需要進行的操作是（）

（）可以通過帶電粒子在盛場作用下做運動把粒子進行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）