鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）

光刻膠對人部分可見光敏感，但對（）光不敏感。

以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是（）

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設(shè)定于（）。

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

當(dāng)需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時，一般使用（）。

分結(jié)深是重要的結(jié)構(gòu)參數(shù)，在檢驗時發(fā)現(xiàn)超淺結(jié)注入時，判斷其造成原因有（）

一般情況下，刻蝕完成后需要進行的操作是（）

試說明ICT測試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點？

最常用的砷化橡的濕法刻蝕腐蝕液包括（）