在顯影過程中，對于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。

利用高溫驅(qū)動雜質(zhì)滲透進半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）

通過分析刻蝕前后刻蝕腔內(nèi)的成分來判斷是否達到終點的終點檢測方法是（）

離子注入機掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）

下列哪些是進行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）

影響顯影工藝的因素有（）。

當需要刻蝕的圖形尺寸大于3um時，一般使用（）。

一般情況下，刻蝕完成后需要進行的操作是（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）