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問答題
【簡(jiǎn)答題】什么是分辨率？如何提高分辨率？
答案：（1）分辨率（resolution）就是屏幕圖像的精密度，是指顯示器所能顯示的像素的多少。由于屏幕上的點(diǎn)、線和面都是由像...
問答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)要說明正膠和負(fù)膠的關(guān)光刻原理與特性。
答案：原理：臨時(shí)性地涂覆在硅片表面，通過曝光轉(zhuǎn)移設(shè)計(jì)圖形到光刻膠上。
負(fù)膠特性：
1曝光后不可溶解
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【簡(jiǎn)答題】為什么說光刻是IC制造中最重要的工藝？光刻的三個(gè)要素是什么？
答案：因?yàn)楣饪淘贗C制造中
①占芯片制造時(shí)間的40 to 50%
②占芯片制造成本的1...
問答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述PECVD技術(shù)的工藝原理、工藝特征及工藝應(yīng)用。
答案：
問答題
【簡(jiǎn)答題】在雙極集成電路和MOS集成電路工藝中，為什么都要用外延層？
答案：在雙極集成電路工藝中，采用高阻的外延層可提高集電結(jié)的擊穿電壓，而其低阻的襯底（或埋層）可降低集電極的串聯(lián)電阻。在MOS集...
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【簡(jiǎn)答題】試對(duì)比分析擴(kuò)散工藝和離子注入工藝的特征和特點(diǎn)。
答案：擴(kuò)散是高溫工藝，需要SiO₂這樣的耐高溫硬掩膜，其擴(kuò)散形成的結(jié)深較深。擴(kuò)散是各向同性的，因此有較大...
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【簡(jiǎn)答題】什么是離子注入的溝道效應(yīng)？消除溝道效應(yīng)的途徑有哪些？
答案：
問答題
【簡(jiǎn)答題】請(qǐng)闡述擴(kuò)散的局限性。
答案：與離子注入工藝相比，擴(kuò)散工藝的局限性在于：
1）擴(kuò)散是各向同性的，其掩膜下方會(huì)有嚴(yán)重的橫向擴(kuò)散效應(yīng)，因而不適于...
問答題
【簡(jiǎn)答題】實(shí)際氧化工藝為什么要采用先干氧、再濕氧、最后再干氧的氧化方法？
答案：干氧的氧化速率最慢，但其氧化層質(zhì)量最好。濕氧的氧化速率快，但其氧化層質(zhì)量不如干氧工藝。實(shí)際氧化工藝多采用干氧-濕氧-干氧...
問答題
【簡(jiǎn)答題】為什么氧化層厚度越厚，熱氧化生長的速率越慢？
答案：根據(jù)熱氧化的生長機(jī)理，氧化劑（O₂或H₂O）若要與襯底Si反應(yīng)生成SiO

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【簡(jiǎn)答題】在VLSI中，為什么要采用Cu互連及多層金屬化技術(shù)？

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