單項(xiàng)選擇題半導(dǎo)體硅常用的受主雜質(zhì)是（）。
A.錫
B.硫
C.硼
D.磷
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1.單項(xiàng)選擇題化合物半導(dǎo)體砷化鎵常用的施主雜質(zhì)是（）。
A.錫
B.硼
C.磷
D.錳
2.單項(xiàng)選擇題半導(dǎo)體硅常用的施主雜質(zhì)是（）。
A.錫
B.硫
C.硼
D.磷
3.單項(xiàng)選擇題在將清洗完的硅片放進(jìn)擴(kuò)散爐擴(kuò)散時(shí)，需要將硅片先裝入（），然后再裝入擴(kuò)散爐。
A.耐熱陶瓷器皿
B.金屬器皿
C.石英舟
D.玻璃器皿
4.單項(xiàng)選擇題通常熱擴(kuò)散分為兩個(gè)大步驟，其中第一個(gè)步驟是（）。
A.再分布
B.等表面濃度擴(kuò)散
C.預(yù)淀積
D.等總摻雜劑量擴(kuò)散
5.單項(xiàng)選擇題下列哪些元素在硅中是快擴(kuò)散元素：（）。
A.Na
B.B
C.P
D.As
最新試題
解決金屬鋁與襯底之間肖特基接觸的方法有（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
離子注入機(jī)掃描系統(tǒng)中，采用的掃描方式有（）
題型：多項(xiàng)選擇題
在離子注入完成后，檢驗(yàn)到硅片表面有顆粒污染嚴(yán)重的情況，該情況引起的主要問題有（）
題型：多項(xiàng)選擇題
電子束蒸發(fā)中有一個(gè)特殊的部件是（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
敘述測(cè)試晶體管的方法？
題型：?jiǎn)柎痤}
根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類分為（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
在顯影過程中，對(duì)于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
光刻膠對(duì)人部分可見光敏感，但對(duì)（）光不敏感。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）
題型：多項(xiàng)選擇題
影響顯影工藝的因素有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題