填空題二氧化硅的制備方法很多,其中最常用的是高溫()、()淀積、PECVD淀積。
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器件的橫向尺寸控制幾乎全由()來實(shí)現(xiàn)。
題型:單項(xiàng)選擇題
在低溫玻璃密封工藝中,常用的運(yùn)載劑由2%(質(zhì)量比)的硝化纖維素溶解于98%(質(zhì)量比)的醋酸異戊酯或松油醇中制得,再將20%的運(yùn)載劑與()的玻璃料均勻混合,配成印刷漿料。
題型:單項(xiàng)選擇題
半導(dǎo)體材料可根據(jù)其性能、晶體結(jié)構(gòu)、結(jié)晶程度、化學(xué)組成分類。比較通用的則是根據(jù)其化學(xué)組成可分為()半導(dǎo)體、()半導(dǎo)體、固溶半導(dǎo)體三大類。
題型:填空題
金屬封裝主要用于混合集成電路封裝,外殼零件一般有底盤、管帽、引線和玻璃絕緣子組成。底盤、管帽和引線的材料常常是()。
題型:單項(xiàng)選擇題
延生長方法比較多,其中主要的有()外延、()外延、金屬有機(jī)化學(xué)氣相外延、()外延、原子束外延、固相外延等。
題型:填空題
厚膜元件燒結(jié)時(shí),漿料中的固體顆粒由接觸到結(jié)合、自由表面的收縮、空隙的排除、晶體缺陷的消除等都會(huì)使系統(tǒng)的自由能(),從而使系統(tǒng)轉(zhuǎn)變?yōu)闊崃W(xué)中更穩(wěn)定的狀態(tài)。
題型:單項(xiàng)選擇題
雜質(zhì)原子在半導(dǎo)體中的擴(kuò)散機(jī)理比較復(fù)雜,但主要可分為()擴(kuò)散和()擴(kuò)散兩種。
題型:填空題
簡述你所在工藝的工藝質(zhì)量要求?你如何檢查你的工藝質(zhì)量?
題型:問答題
簡述光刻工藝原理及在芯片制造中的重要性?
題型:問答題
濺射法是由()轟擊靶材表面,使靶原子從靶表面飛濺出來淀積在襯底上形成薄膜。
題型:單項(xiàng)選擇題