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集成電路制造工藝員（三級）多項選擇題每日一練(2020.05.31)

來源：考試資料網(wǎng)

1 電荷積分儀的基本單元包括（）。

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2 光刻膠的光學穩(wěn)定通過（）來完成的。

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3 擴散工藝在現(xiàn)在集成電路工藝中仍然是是一項重要的集成電路工藝，現(xiàn)在主要被用來制作（）。

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4 下列有關曝光系統(tǒng)的說法正確的是（）。

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5 沾污是指半導體制造過程中引入半導體硅片的任何危害微芯片（）的不希望有的物質(zhì)。

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