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集成電路制造工藝員（三級(jí)）單項(xiàng)選擇題每日一練(2019.02.09)

來源：考試資料網(wǎng)

1 化合物半導(dǎo)體砷化鎵常用的施主雜質(zhì)是（）。

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2 固體中的擴(kuò)散模型主要有填隙機(jī)制和（）。

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3 薄膜沉積的機(jī)構(gòu)，依發(fā)生的順序，可以分為這幾個(gè)步驟。其中不包括（）。

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4 我們可以從測(cè)量去離子水的酸度來判別陰陽樹脂誰先失效，陰樹脂先失效，水呈（）性。

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5 擴(kuò)散爐中的管道一般都是用（）制作。

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