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半導體芯片制造工半導體芯片制造中級工單項選擇題每日一練(2019.05.10)

來源：考試資料網

1 介質隔離是以絕緣性能良好的電介質作為“隔離墻”來實現電路中各元器件間彼此電絕緣的一種隔離方法。常用的電介質是（）層。

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2 光刻工藝是利用感光膠感光后抗腐蝕的特性在半導體晶片表面的掩膜層上的工藝（）

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3 下列晶體管結構中，在晶體管輸出電流很大時常使用的是：（）

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4 在溫度相同的情況下，制備相同厚度的氧化層，分別用干氧，濕氧和水汽氧化，哪個需要的時間最長？（）

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5 從離子源引出的是：（）

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