鳥嘴效應造成的不良影響有（）。

進行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

CMP的設備構成包括（）。

濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。

新的平坦化方法有哪幾個？（）

多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。

光刻工藝的特點包括（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個參數(shù)無關？（）

下面哪些元素屬于半徑較小的雜質原子？（）

下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進行晶圓r的外觀檢查，是否有出現(xiàn)廢品？（）