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問(wèn)答題為濺射做一個(gè)簡(jiǎn)短的解釋，并描述它的工作方式？濺射適合于合金淀積嗎？濺射淀積的優(yōu)點(diǎn)是什么？

1.問(wèn)答題什么是阻擋層金肩？阻擋層材料的基本特性是什么？哪種金屬常被用做阻擋層金屬？

2.問(wèn)答題列出并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點(diǎn)。

1.電阻率的減小。
2.減小了功耗。
3.更高的集成密度。
4.良好的抗電遷徙性能。
5.更少的工藝步驟。

3.問(wèn)答題描述溝道效應(yīng)。列舉并簡(jiǎn)要解釋控制溝道效應(yīng)的三種機(jī)制。

4.問(wèn)答題列舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。

1.離子源
2.引出電極和離子分析器
3.加速管
4.掃描系統(tǒng)
5.工藝室

5.問(wèn)答題離子注入的主要缺點(diǎn)是什么？如何克服？