影響顯影工藝的因素有（）。

最常用的砷化鎵的濕法刻蝕腐蝕液包括（）

在顯影過程中，對(duì)于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

利用高溫驅(qū)動(dòng)雜質(zhì)滲透進(jìn)半導(dǎo)體內(nèi)，此工序采用的設(shè)備是（）

以下是離子注入過程中的主要參數(shù)的是（）

通常鉭、鈷、鎳等難溶金屬應(yīng)用于（）

試說明ICT測(cè)試電阻器阻值的原理？為什么要加隔離點(diǎn)？

鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設(shè)定于（）。

分結(jié)深是重要的結(jié)構(gòu)參數(shù)，在檢驗(yàn)時(shí)發(fā)現(xiàn)超淺結(jié)注入時(shí)，判斷其造成原因有（）