硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項？（）

新的平坦化方法有哪幾個？（）

化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個？（）

下面哪個選項不是集成電路工藝用化學氣體質量的指標？（）

互連工藝中AL的制備可選用（）。

刻蝕工藝可以和以下哪個工藝結合來實現(xiàn)圖形的轉移？（）

CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。

光刻工藝對準誤差包括（）。

光刻工藝的設備核心是（）。

摻雜后退火時間一般在（）。