半導體工藝技術中，器件互連材料通常包括（）等。

MOS器件存在哪些二階效應？

目前集成電路版圖設計的主流工具有哪些？

根據(jù)圖，給出M2管的漏極電流表達式。

20世紀上半葉對半導體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是（）。

從天然硅中獲得達到生產(chǎn)半導體器件所需純度的SGS要經(jīng)過（）等步驟。

由于襯底材料的緣故會自動產(chǎn)生電容，這種電容稱為（）。

版圖設計的基本前提是什么？

MOS場效應管（MOSFET）在20世紀70年代得到了廣泛的接受，從那時起到現(xiàn)在一直是集成電路的主流晶體管。MOSFET有兩類（）和（）。每種類型可由各自器件的多數(shù)載流子來區(qū)別。

設計一個CMOS差分放大器電路，寫出其對應的SPICE描述語句并作差模電流-電壓特性分析。