目前集成電路版圖設計的主流工具有哪些？

利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構成一個MOS管，已知Cox＝5×10-4pF/μm2，估算柵極電容。

從天然硅中獲得達到生產(chǎn)半導體器件所需純度的SGS要經(jīng)過（）等步驟。

在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，求M4的漏電流。

在晶體材料中，對于長程有序的原子模式最基本的實體就是（）。

把半導體級硅的多晶硅塊，轉換成一塊大的單晶硅的過程，稱作（）。生長后的單晶硅被稱為（）。

試述兩種傳輸線電感，比較其優(yōu)缺點。

由于襯底材料的緣故會自動產(chǎn)生電容，這種電容稱為（）。

規(guī)定版圖幾何設計規(guī)則的意義是什么？

說明MOS器件噪聲的來源、成因及減小方法。