集成電路制造工藝員（三級）單項選擇題每日一練(2019.01.24)

來源：考試資料網(wǎng)

1 電離氣體與普通氣體的不同之處在于：后者是由電中性的分子或原子組成的，前者則是（）和中性粒子組成的集合體。

2 半導(dǎo)體硅常用的受主雜質(zhì)是（）。

3 半導(dǎo)體硅常用的施主雜質(zhì)是（）。

4 在空位擴散中，如果遷移到空位的原子是基質(zhì)原子，擴散屬于（）。

5 為了避免（）在經(jīng)過氯化物等離子體刻蝕之后的殘留物使其發(fā)生腐蝕，必須在刻蝕完畢之后再增加一道工序來除去這些表面殘留物。