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集成電路制造工藝員（三級(jí)）單項(xiàng)選擇題每日一練(2019.01.18)
來(lái)源：考試資料網(wǎng)
1
（）的氣體源中一般包含H
+
，C
+
，B
+
，Cl
+
，O
+
等離子。
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2
一般分析擴(kuò)散系數(shù)，考慮兩種條件，即恒定表面濃度條件和（）。
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3
真空蒸發(fā)又被人們稱(chēng)為（）。
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4
用真空蒸發(fā)與濺射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金屬材料，是形成電極的（）。
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5
（）方法是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)中用來(lái)沉積不同金屬的應(yīng)用最為廣泛的技術(shù)。
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