單項(xiàng)選擇題（）的氣體源中一般包含H+，C+，B+，Cl+，O+等離子。
A.Cl2
B.BCl3
C.CO2
D.H2
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1.單項(xiàng)選擇題離子源產(chǎn)生的離子在（）的加速電場(chǎng)作用下得到加速。
A.分析器
B.掃描器
C.加速器
D.偏轉(zhuǎn)器
2.單項(xiàng)選擇題Torr是指（）的單位。
A.真空度
B.磁場(chǎng)強(qiáng)度
C.體積
D.溫度
3.單項(xiàng)選擇題激光退火目前有（）激光退火兩種。
A.一般和特殊
B.脈沖和連續(xù)
C.高溫和低溫
D.快速和慢速
4.單項(xiàng)選擇題（）就是用功率密度很高的激光束照射半導(dǎo)體表面，使其中離子注入層在極短的時(shí)間內(nèi)達(dá)到高溫，消除損傷。
A.熱退火
B.激光退火
C.連續(xù)激光退火
D.脈沖激光退火
5.單項(xiàng)選擇題目前，最廣泛使用的退火方式是（）。
A.熱退火
B.激光退火
C.電子束退火
D.離子束退火
最新試題
光刻膠對(duì)人部分可見光敏感，但對(duì)（）光不敏感。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點(diǎn)，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）
題型：多項(xiàng)選擇題
在顯影過(guò)程中，對(duì)于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
刻蝕的過(guò)程中，對(duì)刻蝕的要求是（）
題型：多項(xiàng)選擇題
高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進(jìn)光刻機(jī)上，那么i線的UV光波長(zhǎng)為（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下列可能造成離子源沾污的因素是（）
題型：多項(xiàng)選擇題
敘述測(cè)試晶體管的方法？
題型：?jiǎn)柎痤}
（）可以通過(guò)帶電粒子在盛場(chǎng)作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
金屬薄膜制備中常見的濺射方式有（）
題型：多項(xiàng)選擇題