問答題簡述立式爐系統(tǒng)的五部分。
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光刻工藝對準(zhǔn)誤差包括()。
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摻雜后退火時間一般在()。
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當(dāng)許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層,開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為()。
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進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是()。
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光刻工藝的特點包括()。
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CMP的設(shè)備構(gòu)成包括()。
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