硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項？（）

下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進(jìn)行晶圓r的外觀檢查，是否有出現(xiàn)廢品？（）

消除鳥嘴效應(yīng)的方法有（）。

光刻工藝的設(shè)備核心是（）。

互連工藝中AL的制備可選用（）。

光刻工藝的特點包括（）。

CMP的設(shè)備構(gòu)成包括（）。

摻雜后退火時間一般在（）。

進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是（）。

下面哪些元素屬于半徑較小的雜質(zhì)原子？（）