光刻工藝對(duì)準(zhǔn)誤差包括（）。

消除鳥(niǎo)嘴效應(yīng)的方法有（）。

進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是（）。

厚膜電阻的成分，一是導(dǎo)體顆粒，二是（）。

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

刻蝕過(guò)程中聚合物形成的來(lái)源有（）。

碳納米管場(chǎng)效應(yīng)晶體管是未來(lái)晶體管發(fā)展趨勢(shì)之一。

常壓的硅外延方法有（）。

硅烷法制備高純硅的步驟不包括哪一項(xiàng)？（）

下面哪些元素屬于半徑較小的雜質(zhì)原子？（）