摻雜后，退火的目的是（）。

濕氧氧化采用的氧化水溫是（）。

進(jìn)行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。

摻雜后退火時(shí)間一般在（）。

注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無關(guān)？（）

刻蝕工藝可以和以下哪個(gè)工藝結(jié)合來實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移？（）

金屬化中可選用的金屬材料有（）。

消除鳥嘴效應(yīng)的方法有（）。

進(jìn)行溝槽填充常用的金屬材料是（）。