填空題光刻工藝一般都要經(jīng)過涂膠、()、曝光、()、堅膜、腐蝕、()等步驟。
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拋光片的電學參數(shù)包括電阻率,載流子濃度,遷移率,直徑、厚度、主參考面等。()
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光刻工藝要求掩膜版圖形黑白區(qū)域之間的反差要低。()
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離子源是產(chǎn)生離子的裝置。()
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邏輯電路只能處理“非O即1“這兩個值。()
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硅MOSFET和硅JFET結構相同。()
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