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每日一練
章節(jié)練習(xí)
半導(dǎo)體芯片制造工半導(dǎo)體制造技術(shù)問答題每日一練(2019.01.22)
來源:考試資料網(wǎng)
1.問答題
根據(jù)曝光方式的不同,光學(xué)光刻機可以分成幾類?各有什么優(yōu)缺點?
參考答案:
根據(jù)曝光方式不同光學(xué)光刻機主要分為三種:接觸式,接近式,投影式。接觸式:接觸式光刻機是最簡單的光刻機,曝光時,掩模壓在涂...
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2.問答題
簡述常規(guī)熱氧化辦法制備SiO
2
介質(zhì)薄膜的動力學(xué)過程,并說明在什么情況下氧化過程由反應(yīng)控制或擴散控制。
參考答案:
迪爾-格羅夫氧化模型可以很好地預(yù)測氧化層厚度,熱氧化過程主要分為以下三個過程:(1)氧化劑從氣體內(nèi)部以擴散形式穿過滯留層...
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3.問答題
浸沒式光刻機相對于傳統(tǒng)的光刻機有何不同。
參考答案:
根據(jù)瑞利判據(jù):要提高分辨率,可以通過增大數(shù)值孔徑NA來實現(xiàn)。傳統(tǒng)曝光設(shè)備在鏡頭與硅片之間的介質(zhì)是空氣,空氣的折射率是1;...
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4.問答題
下圖為直流等離子放電的I-V曲線,請分別寫出a-g各段的名稱。可用作半導(dǎo)體制造工藝中離子轟擊的是其中哪一段?試解釋其工作原理。
參考答案:
ab段為無光放電區(qū);bc段為湯生放電;c點為放電的著火點,cd段為前期輝光放電;de段為正常輝光放電區(qū)ef段為反常輝光放...
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5.問答題
下圖為一個典型的離子注入系統(tǒng)。(1)給出1~6數(shù)字標識部分的名稱,簡述其作用。(2)闡述部件2的工作原理。
參考答案:
1.離子源2.分析磁塊3.加速器4.中性束閘5.x&y掃描板6.法拉第杯
1.離子源作用:產(chǎn)生注入用的離子原理...
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