問(wèn)答題根據(jù)曝光方式的不同，光學(xué)光刻機(jī)可以分成幾類？各有什么優(yōu)缺點(diǎn)？
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
3.問(wèn)答題根據(jù)原理分類，干法刻蝕分成幾種？各有什么特點(diǎn)？
4.問(wèn)答題簡(jiǎn)述BOE（或BHF）刻蝕SiO2的原理。
5.問(wèn)答題射頻放電與直流放電相比有何優(yōu)點(diǎn)？
最新試題
光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個(gè)重要參數(shù)是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說(shuō)明它們是n型還是p型？
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉雙大馬士革金屬化過(guò)程的10個(gè)步驟。
題型：?jiǎn)柎痤}
敘述氮化硅的濕法化學(xué)去除工藝。
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型：?jiǎn)柎痤}
描述化學(xué)機(jī)械平坦化工藝。
題型：?jiǎn)柎痤}
定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。
題型：?jiǎn)柎痤}