由于顯影時的變形和膨脹,負性光刻膠通常只有2μm的分辨率。 正性光刻膠。
1.將掩膜版圖案轉移到硅片表面頂層的光刻膠中。 2.在后續(xù)工藝中保護下面的材料。
最新試題
濕氧氧化采用的氧化水溫是()。
互連工藝中AL的制備可選用()。
進行溝槽填充常用的金屬材料是()。
光刻工藝的特點包括()。
多層陶瓷基板多層化的方法包括()。
化學機械拋光液的主要成分不包括的是哪個?()
碳納米管場效應晶體管是未來晶體管發(fā)展趨勢之一。
下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進行晶圓r的外觀檢查,是否有出現(xiàn)廢品?()
三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。
金屬化中可選用的金屬材料有()。