橫波雙探頭檢測(cè)技術(shù)的典型排列方式，試從圖中判斷排列方式1有利于檢測(cè)以下哪種內(nèi)部缺陷（）
A.平行于聲入射方向的面積缺陷
B.平行于聲入射面的面積缺陷
C.垂直于聲入射方向的面積缺陷
D.垂直于聲入射面的面積缺陷
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是橫波雙探頭檢測(cè)技術(shù)的典型排列方式，試從圖中判斷哪種排列方式適宜檢測(cè)平行于聲入射面的內(nèi)部缺陷
（）
A.方式1
B.方式2
C.方式3
D.以上方式都可以
圖是利用IIW-II試塊調(diào)整橫波聲程時(shí)基線，探頭聲束對(duì)準(zhǔn)R50圓弧面時(shí)的示意圖。如果按1：2聲程調(diào)整的話（入射點(diǎn)對(duì)‘0’，滿刻度200），熒光屏上出現(xiàn)的各反射波的位置應(yīng)是以下哪種情況（）
A.50、100、200
B.50、125、200
C.50、75、200
D.50、100、150、200
圖是利用IIW-II試塊調(diào)整橫波聲程時(shí)基線，探頭聲束對(duì)準(zhǔn)R50圓弧面時(shí)的示意圖。如果按1：1聲程調(diào)整的話（入射點(diǎn)對(duì)‘0’，滿刻度100），熒光屏上出現(xiàn)的各反射波的位置應(yīng)是以下哪種情況（）
A.50
B.50、100
C.50、75、100
D.以上都可能
圖是利用IIW-II試塊調(diào)整橫波聲程時(shí)基線，探頭聲束對(duì)準(zhǔn)R50圓弧面時(shí)的示意圖。此時(shí)，各反射波之間的間距應(yīng)是多少（）
A.25
B.50
C.75
D.100
圖是利用IIW-II試塊調(diào)整橫波聲程時(shí)基線，探頭聲束對(duì)準(zhǔn)R25圓弧面時(shí)的示意圖。此時(shí)，各反射波之間的間距應(yīng)是多少（）
A.25
B.50
C.75
D.100
最新試題
（）可以檢測(cè)出與探測(cè)面垂直的橫向缺陷。
關(guān)于液浸法的優(yōu)點(diǎn)，說法錯(cuò)誤的是（）。
（）主要用于表面光滑工件的表面和近表面缺陷檢測(cè)。
利用底波計(jì)算法進(jìn)行靈敏度校準(zhǔn)時(shí)，適用的工件厚度為（）。
當(dāng)超聲波到達(dá)工件的臺(tái)階、螺紋等輪廓時(shí)將引起反射，這種波是（）。
在對(duì)缺陷進(jìn)行定量前，必須先調(diào)節(jié)（）。
（）和底波高度法一般用于缺陷尺寸小于聲束截面的缺陷定量。
調(diào)整檢測(cè)靈敏度的目的在于檢測(cè)出工件中規(guī)定大小的缺陷，并對(duì)缺陷進(jìn)行（）。
單探頭法容易檢出（）。
（）是影響缺陷定量的因素。