圖是利用IIW-II試塊調(diào)整橫波聲程時(shí)基線,探頭聲束對(duì)準(zhǔn)R50圓弧面時(shí)的示意圖。如果按1:1聲程調(diào)整的話(入射點(diǎn)對(duì)‘0’,滿刻度100),熒光屏上出現(xiàn)的各反射波的位置應(yīng)是以下哪種情況()
A.50
B.50、100
C.50、75、100
D.以上都可能
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圖是利用IIW-II試塊調(diào)整橫波聲程時(shí)基線,探頭聲束對(duì)準(zhǔn)R50圓弧面時(shí)的示意圖。此時(shí),各反射波之間的間距應(yīng)是多少()
A.25
B.50
C.75
D.100
圖是利用IIW-II試塊調(diào)整橫波聲程時(shí)基線,探頭聲束對(duì)準(zhǔn)R25圓弧面時(shí)的示意圖。此時(shí),各反射波之間的間距應(yīng)是多少()
A.25
B.50
C.75
D.100
圖是利用IIW-II試塊調(diào)整橫波聲程時(shí)基線,探頭聲束對(duì)準(zhǔn)R25圓弧面時(shí)的示意圖。如果按1:1聲程調(diào)整的話(入射點(diǎn)對(duì)‘0’,滿刻度100),熒光屏上出現(xiàn)的各反射波的位置應(yīng)是以下哪種情況?()
A.25、100
B.25、50、100
C.25、50、75、100
D.以上都可能
圖是測(cè)試橫波探頭不同折射角對(duì)應(yīng)探頭位置的示意圖,根據(jù)圖示判斷C探頭位置測(cè)試的折射角是利用以下哪個(gè)面的回波()
A.孔1
B.側(cè)壁
C.孔2
D.弧面
圖是測(cè)試橫波探頭不同折射角對(duì)應(yīng)探頭位置的示意圖,根據(jù)圖示判斷B探頭位置測(cè)試的折射角是利用以下哪個(gè)面的回波()
A.孔1
B.側(cè)壁
C.孔2
D.弧面
最新試題
()主要用于表面光滑工件的表面和近表面缺陷檢測(cè)。
單探頭法容易檢出()。
調(diào)節(jié)時(shí)基線時(shí),應(yīng)使()同時(shí)對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)的聲程位置。
超聲檢測(cè)對(duì)缺陷定位時(shí),()不是影響缺陷定位的主要因素。
利用底波計(jì)算法進(jìn)行靈敏度校準(zhǔn)時(shí),適用的工件厚度為()。
當(dāng)調(diào)節(jié)檢測(cè)靈敏度用的試塊與工件()、曲率半徑不同或材質(zhì)衰減不同時(shí),需要進(jìn)行傳輸修正。
探頭延檢測(cè)面水平移動(dòng),超聲檢測(cè)系統(tǒng)區(qū)分兩個(gè)相鄰缺陷的能量稱為()。
關(guān)于液浸法的優(yōu)點(diǎn),說(shuō)法錯(cuò)誤的是()。
實(shí)際檢測(cè)中,為了提高掃查速度而又不引起漏檢,常將檢測(cè)靈敏度適當(dāng)提高,這種在檢測(cè)靈敏度基礎(chǔ)上適當(dāng)提高后的靈敏度叫做()。
()是影響缺陷定量的因素。