A、停顯液、醋酸、水
B、顯影液、醋酸、水
C、顯影液、定影液、水
D、顯影液、定影液、醋酸
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A、暗
B、亮
C、與透過(guò)底片的光亮度相同
D、以上都不對(duì)
A、30cd/m2
B、100cd/m2
C、1000cd/m2
D、3000cd/m2
A、底片靈敏度
B、底片寬容度
C、底片清晰度
D、源的強(qiáng)度
A、試件厚度差
B、射線的質(zhì)
C、散射線
D、以上均不對(duì)
A、前散射
B、背散射
C、側(cè)面散射
D、以上都不是
最新試題
缺陷檢測(cè)即通常所說(shuō)的渦流探傷主要影響因素包括()、電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率、邊條效應(yīng)、提離效應(yīng)等。
當(dāng)波束不再與缺陷相遇,則回波()
渦流檢測(cè)線圈的互感線圈一般由()構(gòu)成。
當(dāng)波束中心線與缺陷面()且回波最()時(shí),移動(dòng)探頭使波束中心(),回波高度當(dāng)隨之下降。
掃查方式一般視試件的()而定。
渦流檢測(cè)儀的阻抗幅值型儀器在顯示終端僅給出()的相關(guān)信息。
對(duì)于圓盤形試件,常沿()在圓面上進(jìn)行掃查。
渦流檢測(cè)線圈感應(yīng)和接收材料或零件中感生渦流的再生磁場(chǎng)的傳感器,它是構(gòu)成()系統(tǒng)的重要組成部分,對(duì)于檢測(cè)結(jié)果的好壞起著重要的作用。
缺陷愈大,所遮擋的聲束也愈多,底波波高也就愈低,這就有可能用缺陷波高與底波波高之比來(lái)表示缺陷的()
渦流檢測(cè)輔助裝置的試樣傳動(dòng)裝置用于形狀規(guī)則產(chǎn)品的()