A、暗
B、亮
C、與透過(guò)底片的光亮度相同
D、以上都不對(duì)
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A、30cd/m2
B、100cd/m2
C、1000cd/m2
D、3000cd/m2
A、底片靈敏度
B、底片寬容度
C、底片清晰度
D、源的強(qiáng)度
A、試件厚度差
B、射線的質(zhì)
C、散射線
D、以上均不對(duì)
A、前散射
B、背散射
C、側(cè)面散射
D、以上都不是
A、左移
B、右移
C、上移
D、下移
最新試題
渦流檢測(cè)線圈是在被檢測(cè)導(dǎo)電材料或零件表面及近表面激勵(lì)產(chǎn)生()
采用以()為橫坐標(biāo),以平底孔直徑標(biāo)注各當(dāng)量曲線作成實(shí)用AVG曲線。
鋁合金電導(dǎo)率的渦流檢測(cè)中硬度檢驗(yàn)是一種()方法。
渦流檢測(cè)線圈的互感線圈一般由()構(gòu)成。
對(duì)于接觸法只須將能使缺陷落在其遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)內(nèi)的縱波直探頭在試件表面移動(dòng),即可獲得缺陷的()所在的位置,從而定出缺陷的平面位置。
渦流檢測(cè)輔助裝置的試樣傳動(dòng)裝置用于形狀規(guī)則產(chǎn)品的()
掃描儀器的掃查的間距通常根據(jù)探頭的最小聲束(),保證兩次掃查之間有一定比例的覆蓋。
當(dāng)波束中心線與缺陷面()且回波最()時(shí),移動(dòng)探頭使波束中心(),回波高度當(dāng)隨之下降。
在聲束垂直試件表面時(shí),所獲得的()反射波高可能并不是可獲得的最大反射波高。
對(duì)于長(zhǎng)條形試件,則常沿()作平行縱軸的直線式掃查。