判斷題離子注入中高能量意味著注入硅片更深處,低能量則用于超淺結(jié)注入。
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目前集成電路版圖設(shè)計的主流工具有哪些?
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試述兩種傳輸線電感,比較其優(yōu)缺點。
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硅半導(dǎo)體工藝中的絕緣材料主要來源于硅自身產(chǎn)生的()材料等。
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利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構(gòu)成一個MOS管,已知Cox=5×10-4pF/μm2,估算柵極電容。
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