刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

定義刻蝕選擇比。干法刻蝕的選擇比是高還是低？高選擇比意味著什么？

定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

解釋發(fā)生刻蝕反應(yīng)的化學(xué)機理和物理機理。

解釋什么是暗場掩模板？