描述RF濺射系統(tǒng)。

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

例舉雙大馬士革金屬化過程的10個步驟。

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個步驟。

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。