A.蒸氣除油
B.堿性清洗劑清洗
C.溶劑清洗
D.熱水清洗
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A.過(guò)分的清洗
B.顯像劑施加不當(dāng)
C.滲透探傷時(shí)，工件或滲透劑太冷
D.工件表面沾有棉絨或污垢
A.熒光滲透劑可在白色背景上產(chǎn)生紅色的不連續(xù)性顯示
B.非熒光滲透劑需要使用黑光燈
C.熒光顯示在黑光照射下可以看見(jiàn)
D.為了便于觀察和解釋?zhuān)瑧?yīng)使熒光顯示在暗處發(fā)光
A.降低顯示對(duì)比度
B.反映是否過(guò)清洗
C.多孔性試件背景很難去除
D.反映是否過(guò)乳化
A.后乳化型滲透探傷需要單獨(dú)的乳化工序
B.水洗型滲透探傷需要單獨(dú)的乳化工序
C.后乳化型滲透探傷可檢驗(yàn)淺而寬的缺陷
D.水洗型滲透探傷可檢驗(yàn)淺而寬的缺陷
A.把零件表面上的滲透劑剛好去除掉
B.清洗得越干凈越好
C.保持一定背景水平
D.要視顯像要求而定
最新試題
儀器時(shí)基線比例一般在試塊上調(diào)節(jié)，當(dāng)工件與試塊的聲速不同時(shí)，儀器的時(shí)基線比例發(fā)生變化，影響缺陷定位精度。
超聲波檢測(cè)中如果被檢工件衰減嚴(yán)重，定量會(huì)受到影響。
當(dāng)工件內(nèi)應(yīng)力與波的傳播方向一致時(shí)，若應(yīng)力為壓縮應(yīng)力，則應(yīng)力作用會(huì)使工件彈性增加，導(dǎo)致聲速減慢。
缺陷相對(duì)反射率即缺陷反射聲壓與基準(zhǔn)反射體聲壓之比。
衍射時(shí)差法探傷，當(dāng)有缺陷存在時(shí)，在直通波和底面反射波之間，接收探頭會(huì)接收到缺陷處產(chǎn)生的衍射波。
儀器時(shí)基線調(diào)節(jié)比例時(shí)，若回波前沿沒(méi)有對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)垂直刻度或讀數(shù)不準(zhǔn)，會(huì)使缺陷定位誤差增加。
高溫探頭的外殼與阻尼塊為不銹鋼，電纜為無(wú)機(jī)物絕緣體高溫同軸電纜。
爬波在自由表面的位移有垂直分量，但不是純粹的表面波。
液浸法探傷是使探頭發(fā)射的超聲波經(jīng)過(guò)一段液體后再進(jìn)入試件的檢測(cè)的方法。
在檢測(cè)晶粒粗大和大型工件時(shí)，應(yīng)測(cè)定材料的衰減系數(shù)，計(jì)算時(shí)應(yīng)考慮介質(zhì)衰減的影響。