A.光刻膠涂覆 B.曝光 C.顯影 D.腐蝕
A.布線分全局布線與詳細(xì)布線兩個階段,決定布線途徑 B.當(dāng)某個布線變?yōu)椴豢赡軙r,確定并拆除成為其障礙物的布線群,進(jìn)行重新布線,使其不再成為其它布線的障礙 C.基于階層的布局設(shè)計包括自頂向下的布圖規(guī)劃和自下向上的模塊布局 D.自頂向下的布圖規(guī)劃包括對階層模塊進(jìn)行面積預(yù)估、確定aspect比、放置模塊及模塊間時間制約的分割
A.是一種高速計算近似值的算法 B.是在實(shí)際可行的時間內(nèi)計算布局布線最優(yōu)解的算法 C.是求局部最優(yōu)解的算法 D.為了讓近似值接近最優(yōu)解,有必要改變執(zhí)行條件(初解、控制參數(shù))多次進(jìn)行重新計算