填空題

制備TiO₂等介質(zhì)薄膜可以采用（）濺射方法。

答案：射頻

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在硅片上熱氧化0.5μm厚的氧化層時，硅片增厚了（）μm。

答案： 0.28

?熱氧化工藝本質(zhì)上是在硅與二氧化硅（）發(fā)生的硅的氧化反應(yīng)。

答案：界面

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