問(wèn)答題例舉并解釋5個(gè)進(jìn)行在線參數(shù)測(cè)試的理由。
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
2.問(wèn)答題給出使用初級(jí)泵和真空泵的理由。
3.問(wèn)答題例出并描述4種真空范圍。
4.問(wèn)答題解釋投射電子能顯微鏡。
5.問(wèn)答題硅片關(guān)鍵尺寸測(cè)量的主要工具是什么？
最新試題
解釋鋁已經(jīng)被選擇作為微芯片互連金屬的原因。
題型：?jiǎn)柎痤}
描述電子回旋共振（ECR）。
題型：?jiǎn)柎痤}
解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。
題型：?jiǎn)柎痤}
解釋什么是暗場(chǎng)掩模板？
題型：?jiǎn)柎痤}
解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問(wèn)題？
題型：?jiǎn)柎痤}
例出光刻的8個(gè)步驟，并對(duì)每一步做出簡(jiǎn)要解釋。
題型：?jiǎn)柎痤}
例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說(shuō)明它們是n型還是p型？
題型：?jiǎn)柎痤}
什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}