解釋什么是暗場掩模板？

例出光刻的8個(gè)步驟，并對每一步做出簡要解釋。

例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關(guān)系。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

光刻中采用步進(jìn)掃描技術(shù)獲得了什么好處？