問(wèn)答題刻蝕的目的是什么？
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.問(wèn)答題列舉下一代光刻技術(shù)中4種正在研發(fā)的光刻技術(shù)。
2.問(wèn)答題光學(xué)光刻技術(shù)的改進(jìn)有哪些方面？
3.問(wèn)答題為什么要進(jìn)行顯影后檢查？
4.問(wèn)答題解釋光刻膠選擇比，要求的比例是高還是低？
5.問(wèn)答題使用什么材料制作投影掩膜板，投影掩膜板上形成圖形的不透明材料是什么？
最新試題
新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）
題型：多項(xiàng)選擇題
化學(xué)機(jī)械拋光液的主要成分不包括的是哪個(gè)？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
CMP的設(shè)備構(gòu)成包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
CE定律發(fā)展面臨的問(wèn)題包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
如下哪個(gè)選項(xiàng)不是半導(dǎo)體器件制備過(guò)程中的主要污染物？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
目前制備SOI材料的主流技術(shù)有幾種？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
芯片粘接的工藝過(guò)程包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
鳥(niǎo)嘴效應(yīng)造成的不良影響有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
刻蝕過(guò)程中聚合物形成的來(lái)源有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
消除鳥(niǎo)嘴效應(yīng)的方法有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題